等離子清洗機的清洗過程從原理上分為兩個過程
過程1為：有機物的去除首先是利用等離子的原理將氣體分子激活，然后利用O，O3與有機物進行反應，達到將有機物排除的目的；
過程2為：表面的活化首先是利用等離子的原理將氣體分子激活，然后利用O，O3含氧官能團的表面活化作用，來改善材料的粘著性和濕潤性能。
等離子清洗一般是利用激光、微波、電暈放電、熱電離、弧光放電等多種方式將氣體激發成等離子狀態。
在等離子清洗機應用中，主要是利用低壓氣體輝光等離子體。一些非聚合性無機氣體（Ar2、N2、H2、O2等）在高頻低壓下被激發，產生含有離子、激發態分子，自由基等多種活性粒子。一般在等離子清洗中，可把活化氣體分為兩類，一類為惰性氣體的等離子體（如Ar2、N2等）；另一類為反應性氣體的等離子體（如O2、H2等）。
等離子產生的原理如下：給一組電極施以射頻電壓（頻率約為幾十兆赫茲），電極之間形成高頻交變電場，區域內氣體在交變電場的激蕩下，產生等離子體。活性等離子對被清洗物進行表面物理轟擊與化學反應雙重作用，使被清洗物表面物質變成粒子和氣態物質，經過抽真空排出，而達到清洗目的。
