等離子清洗機中的等離子體與自然界產生的等離子體本質上是一樣的，是區別于固體、液體和氣體的另一種物質聚集態，人們稱之為物質存在的第四種狀態。它由電離的導電氣體組成，其中包括六種典型的粒子，即電子、正離子、負離子、激發態的原子或分子、基態的原子或分子以及光子。
等離子清洗機的原理：
由于等離子體中的電子、離子和自由基等活性粒子的存在，其本身很容易與固體表面發生反應。等離子體清洗主要是依靠等離子體中活性粒子的“活化作用”達到去除物體表面污漬的目的。
就反應機理來看，等離子體清洗通常包括以下過程：無機氣體被激發為等離子態;氣相物質被吸附在固體表面;被吸附基團與固體表面分子反應生成產物分子;產物分子解析形成氣相;反應殘余物脫離表面。
等離子體清洗技術的最大特點是不分處理對象的基材類型，均可進行處理，對金屬、半導體、氧化物和大多數高分子材料，如聚丙烯、聚脂、聚酰亞胺、聚氯乙烷、環氧、甚至聚四氟乙烯等都能很好地處理，并可實現整體和局部以及復雜結構的清洗。
等離子可以被定義為部分或全部電離的氣體。有數量粗略相等的正電荷粒子和負電荷粒子。等離子體是采用高電壓，高溫電弧人工產生的，高溫電弧是電暈放電過程以及用來蒸發和再沉積金屬的等離子體焰炬的基礎。
