紫外臭氧清洗機是一種簡單，經濟，快速的材料表面清洗設備，只需把樣品放置到樣品盤上，關上艙門，設置時間，并按運行，就可以了，能快速去除大多數無機基材（比如石英，硅片，金，鎳，鋁，砷化鎵，氧化鋁等）上的有機污染物。特別是當基材和薄膜蒸鍍需要很好的粘接時，紫外清洗非常理想。
紫外臭氧清洗機的光清洗技術的應用范圍十分廣泛，在現代信息技術行業中使用光清洗技術比較普遍，隨著我國工業現代化的發展，光清洗和光改質技術還將逐步應用于金屬、塑料、橡膠等工業生產領域。
1、在LCD、OLED生產中，在涂光刻膠、PI膠、定向膜、鉻膜、色膜前經過光清洗，可以極大的提高基體表面潤濕性，增強基體表面的粘合力；
2、印制電路板生產中，對銅底板，印刷底板進行光清洗和改質，在導線焊接前進行光清洗，可以提高熔焊的接觸面積，大大增加連接強度。特別是高精度印制電路板，當線距達到亞微米級時，光清洗可輕易地去除在線距之間很小的微粒，可以大大提高印制電路板的質量。
3、大規模集成電路的密度越來越高，晶格的微細化越來越密，要求表面的潔凈度越來越高，光清洗可以有效地實現表面的原子清潔度，而且對芯片表面不會造成損傷。
4、在半導體生產中，硅晶片涂保護膜、鋁蒸發膜前進行光清洗，可以提高粘合力，防止針孔、裂縫的發生。
5、在光盤的生產中，沉積各種膜前作光清洗準備，可以提高光盤的質量。
