真空等離子清洗機(jī)是氣體分子在真空、放電等特殊場(chǎng)合下產(chǎn)生的物質(zhì)，對(duì)氣體施加足夠的能量使之離化便成為等離子狀態(tài)。等離子清洗/刻蝕產(chǎn)生等離子體的裝置是在密封容器中設(shè)置，利用等離子體來(lái)達(dá)到常規(guī)清洗方法無(wú)法達(dá)到的效果。
 

　　一、真空等離子處理是如何進(jìn)行?
 

　　1、要進(jìn)行等離子處理產(chǎn)品，首先我們產(chǎn)生等離子體。首先，單一氣體或者混合氣體被引入密封的低壓真空等離子體室。隨后這些氣體被兩個(gè)電極板之間產(chǎn)生的射頻(RF)激活，這些氣體中被激活的離子加速，開(kāi)始震動(dòng)。這種振動(dòng)“用力擦洗”需要清洗材料表面的污染物。
 

　　2、在處理過(guò)程中，等離子體中被激活的分子和原子會(huì)發(fā)出紫外光，從而產(chǎn)生等離子體輝光。
 

　　3、溫度控制系統(tǒng)常用于控制刻蝕速率。60-90攝氏度溫度之間刻蝕，是室溫刻蝕速度的四倍。對(duì)溫度敏感的部件或組件，等離子體蝕刻溫度可以控制在15攝氏度。
 

　　4、我們所有的溫度控制系統(tǒng)已經(jīng)預(yù)編程并集成到等離子體系統(tǒng)的軟件中間。設(shè)置保存每個(gè)等離子處理的程序能輕松復(fù)制處理過(guò)程。
 

　　5、可以通過(guò)向等離子體室中引入不同氣體，改變處理過(guò)程。常用的等離子處理氣體包括O2、N2，Ar，H2和CF4。世界各地的大多數(shù)實(shí)驗(yàn)室，基本上都使用這五種氣體單獨(dú)或者混合使用，進(jìn)行等離子體處理。
 

　　6、等離子體處理過(guò)程通常需要大約兩到十分鐘。當(dāng)?shù)入x子體處理過(guò)程完成時(shí)，真空泵去除等離子室中的污染物，室里面的材料是清潔，消過(guò)毒的，可以進(jìn)行粘接或下一步程序。
 

　　二、真空等離子清洗機(jī)處理效果可以保持多長(zhǎng)時(shí)間?
 

　　1、如處理表面保持干凈和干燥，大多數(shù)等離子處理后效果可以保持大約48小時(shí)，但保持時(shí)間根據(jù)處理過(guò)程和產(chǎn)品存放環(huán)境而改變。
 

　　2、如果需要更長(zhǎng)時(shí)間保持處理效果，清洗完成后立即真空袋包裝將延長(zhǎng)保質(zhì)期。
 

　　應(yīng)用范圍：
 

　　廣泛應(yīng)用于表面去油及清洗等離子刻蝕，聚四氟(PTFE)及聚四氟混合物的刻蝕、塑料、玻璃、陶瓷的表面活化和清洗、等離子涂鍍聚合等工序，因此又應(yīng)用于汽車電子領(lǐng)域、軍工電子領(lǐng)域、PCB制成行業(yè)等高精密度領(lǐng)域。