低溫等離子清洗機是利用等離子體技術對物體表面進行清洗，在清洗過程中使用相對較低的溫度，通常在室溫到幾十攝氏度之間。這使得它適用于對溫度敏感的物體進行清洗，避免了高溫對物體造成的熱損傷。
 

　　該設備利用等離子體產生的活性粒子，如離子、電子和自由基等，對物體表面進行清洗。等離子體清洗具有高效、均勻、無殘留的特點，可以去除表面的有機污染物、油脂、粉塵等。
 

　　低溫等離子清洗機和高溫等離子清洗機是兩種不同的清洗設備，它們在清洗溫度和應用領域上存在一些區別。
 

　　1、清洗溫度：低溫在清洗過程中使用相對較低的溫度，通常在室溫到幾十攝氏度之間。而高溫則在清洗過程中使用高溫，通常在幾百攝氏度到數千攝氏度之間。
 

　　2、清洗效果：低溫適用于對溫度敏感的物品進行清洗，可以有效去除表面的有機污染物、油脂、粉塵等。高溫則能夠更干凈地清洗物品表面，包括去除表面的無機污染物、金屬氧化物、硅化物等。
 

　　3、應用領域：低溫常用于電子、光電、醫療器械等領域，清洗電子元件、光學元件、醫療器械等。高溫等離子清洗機常用于半導體、太陽能、航空航天等領域，清洗半導體芯片、玻璃基板、航空零部件等。
 

　　4、清洗機理：低溫主要通過等離子體的化學反應和物理碰撞來清洗物品表面。高溫則利用高溫下的熱化學反應和物理效應來清洗物品表面。