紫外臭氧清洗機是如何工作的呢？它通過紫外燈發出適當強度的185nm和254nm波長高能紫外線破壞有物分子(污染物)。185nm紫外線可以將氧分子O2變成活躍的O3臭氧分子團。254nm紫外線同時激發表面的有機物分子，提高其敏感性，可以被臭氧分子團破壞。
一、目前紫外臭氧清洗機的主要應用表面UV光清洗和表面UV光改質
1、表面UV光清洗：利用紫外光以及由其產生的臭氧OZONE，對有機物質所起的光敏氧化分解作用，以達到去除粘附在物體表面上的有機化合物（碳氫化合物），獲得超潔凈的表面。
2、表面UV光改質：利用紫外光照射有機表面，在將有機物分解的同時，254nm波長的紫外光被物體表面吸收后，將表層的化學結構切斷，光子作用產生原子氧會與被切斷的表層分子結合，并將之變換成具有高度親水性的官能基（如-OH，-CHO，-COOH），從而提高表面的浸潤性。
二、主要應用：
1、石英/玻璃制品的表面清洗：液晶面板,等離子電視屏幕,彩色過濾片,光罩,棱鏡,透鏡,反射鏡,平板電視等。
2、微電子產品的表面清洗：微型馬達軸,磁頭驅動架,光盤,光電器件,手機攝像頭,微型喇叭/受話器震膜,半導體硅片,掩膜版。
3、精密集成電路的表面清洗：液晶顯示器ITO,精密電路板,軟性電路板接頭,BGA基板的清洗,COG的清洗,COF(ILB)接合面的清洗,薄膜基板的清洗,金屬基板的清洗，BGA基板與粘結墊的清洗。
4、在膠粘接或是印刷之前，對高分子聚合制品的表面改性：橡膠粘接，塑料汽車部件，透鏡保護膜,塑料薄膜,樹脂成型空氣袋,IC包裝,注射針接合部份的表面性,介入導管的表面改型等。
5、科研過程的表面清洗及處理：半導體，生物芯片，納米材料，聚合物，光化學等。
